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半導體行業超純水水質標準
半導體工業需要大量的超純水,隨著半導體工業的發展,對超純水水質的要求日趨嚴格。當前半導體工業的超純水的水質指標要求,甚至嚴格于我國國標電子水的最高標準要求,如微粒子,TOC,電阻率,溶解氧等。因此,相比于其他行業的超純水,需要更加嚴格的深度處理技術,如深度處理顆粒物,有機物,深度脫鹽,深度脫氣技術等等。其部分參考標準如下:
ASTM-D5127-2007《美國電子學和半導體工業用超純水標準》
中國國家電子級超純水規格GB/T11446-1997
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