因為專業
所以領先
除了傳統的芯片結構之外,IBM 研究中心還在研究將人工智能和其他尖端模式的力量帶入生活的新方法。半導體領域的關鍵挑戰之一是如何將片上系統的各種功能分解為可配置為最好地解決問題的設備。這些被稱為小芯片的設備可以解鎖強大的新功能,例如將人工智能加速器與多個內存小芯片和單個輸入輸出設備堆疊在一起的人工智能設備,創建一個可用于推斷最先進的人工智能模型的小芯片集。
Chiplet 是 IBM 半導體研究的一個重點領域,而如何有效地封裝它們是該工作的重要組成部分。目前,盡管有多個團體支持的建議,但其他公司制造的小芯片如何相互交互還沒有標準化。IBM 正在研究這些設備的工作方式,包括設計高帶寬互連、如何將硅芯片堆疊在一起、設備如何保持冷卻以及它們如何在封裝中保持足夠的功率。“我們才剛剛開始觸及皮毛,”麥克赫倫說。
這只是封裝研究革命的開始。“當 CMOS 微縮技術處于鼎盛時期,你不需要所有這些花哨的封裝——所有的創新都發生在硅片上,”McHerron 說。“現在鐘擺正從 CMOS 微縮創新轉向封裝創新,即在給定空間內封裝更多硅芯片,而不是僅僅通過晶體管微縮在硅芯片上封裝更多晶體管。”
麥克赫倫說,通過硅和封裝技術混合方式的增強,可以提高系統性能。“我們正處于封裝性能的新時代。”
二、芯片封裝材料研究
簡而言之,芯片封裝提供了計算機芯片運行的機械環境。封裝為芯片提供電源并容納輸入和輸出,使其能夠與計算系統的其余部分進行通信。芯片在運行時也容易變熱,因此封裝旨在保持一定的溫度范圍,以免芯片過熱。
經過整個行業數十年的反復試驗,許多現代微電子模塊都是圍繞大致相同的材料(稱為有機基板)構建的。大多數的核心材料是一種名為 FR-4 的材料,它由編織玻璃纖維和環氧樹脂組成,而且環氧樹脂也具有阻燃性。FR-4 面板通常層壓有一層薄薄的銅箔,這是一種高導電材料。目前正在研究用于芯片封裝的其他材料,例如由玻璃制成的核心,這可以實現更快的數據傳輸和更小的芯片結構。但這項工作可能還需要數年時間才能投入生產。
層壓板的頂部是為封裝中的銅布線而構建的層。電介質之間的堆積層是由一家名為 Ajinomoto 的公司制造的,該公司主要以食品包裝而聞名。事實證明,包裝美味佳肴的過程與制造有機層壓板所需的層并沒有太大不同——至少從化學角度來看是這樣。但我們不建議食用這些層壓板。
基礎基板材料通常針對許多不同應用的芯片封裝進行標準化。對于芯片必須在非常熱的情況下運行的情況,更多的是如何冷卻設備,而不是其層壓結構中使用的材料。這是在芯片背面處理的。
該芯片通過稱為受控塌陷芯片連接(C4)的焊球連接到有機基板上,這實際上是 IBM 幾十年前發明的。然后,使用液態環氧底部填充材料來隔離球。隨著芯片尺寸不斷縮小,我們需要找到將部件連接在一起的新方法,因為目前 C4 球中使用的焊料無法像芯片的其他部件一樣有效地縮小尺寸。IBM 正在開創新方法,例如混合鍵合,其中使用銅層和氧化物電介質將芯片直接鍵合在一起,無需中間焊接連接。
當縮小芯片尺寸時,您需要確保所有組件都具有極高的可靠性,因為幾乎沒有發生故障的空間。各種結構上的應力會隨著它們變小而發生變化。隨著人工智能計算的新進步和新形式的芯片設計,芯片之間重新需要更多更小的互連,以支持強大的人工智能訓練和推理模型。
IBM奧爾巴尼 NanoTech Complex 封裝研究設施的大部分重點現在都圍繞著提高可靠性以及減小芯片之間高密度互連所需的銅線尺寸和電介質厚度。人們正在研究新的工藝技術,以設計、構建和測試這些更小尺寸的組件。這包括壓力測試設備,并確保它們能夠產生每種潛在操作情況所需的信號強度和電流。部件經過熱循環,確保它們可以在不同的溫度和濕度水平下工作,并在幾周內模擬模塊的整個使用壽命進行測試。
三、制造工藝研究
一旦設計出新的半導體并在封裝中進行了測試,就需要大規模生產。還需要在這里進行研究和測試,以確保實驗室中有效的設計可以輕松地按照客戶需要的規模進行生產。這是 IBM 位于加拿大魁北克省南部布羅蒙工廠的工作的一部分。
Bromont 為廣泛的客戶生產模塊封裝和測試,其中包括 IBM —Bromont 將芯片封裝在 IBM Z 和 P 系統中。它也恰好是北美最大的外包半導體組裝和測試(OSAT) 設施,也是美國政府信任的設施。“Bromont 在很大程度上是 IBM 芯片研發領域的核心人物,”負責 Bromont 研發和業務開發的 Etienne Lemieux 說道。
有人可以通過多種方式與布羅蒙的研究人員和生產人員一起工作。在某些情況下,客戶可能會想出他們希望如何封裝芯片的想法,并會要求 Bromont 團隊構建原型并找出大規模制造它們的流程。有時,客戶手上已經有了完整的設計,但會尋求 IBM 的生產經驗來提高其可制造性。很少有客戶會完全空白并指望 IBM 從頭開始設計某些東西,但這種情況是有可能發生的。然而,在大多數情況下,工作通常集中在試圖使芯片封裝生產更具成本效益。
對于大多數合作,整個過程——從聯系 IBM 到大規模交付芯片——可能需要六個月到兩年的時間。在此期間,工程師和技術人員將致力于構建對他們正在使用的設計最有意義的制造流程,向客戶提供原型并獲得反饋以迭代地達到最終輸出。Lemieux 表示,可能需要三到四次迭代才能讓各方對流程的可靠性和成本效益感到滿意。
一旦生產就緒流程和設計最終確定,IBM 通常會將它們發送給客戶,然后客戶將依賴可以將它們安裝在卡上的制造商,例如 PCIe 卡或主板,具體取決于它們的使用方式。
在開發芯片封裝工藝時,Bromont 團隊在MiQro Innovation 協作中心(C2MI) 完成大部分工作,這是舍布魯克大學 (University of Sherbrooke) 旗下的先進半導體研發機構,位于 Bromont 基地附近。C2MI 站點在其 Bromont 工廠內擁有與 IBM 大致相同的工具,使團隊能夠測試想法,然后將其有效地引入生產線。
與在奧爾巴尼進行的材料和架構測試非常相似,Bromont 團隊也對其工藝進行壓力測試,以確保他們能夠生產具有高可靠性的封裝芯片。在 C2MI,IBM 員工可以測試各種熱材料、零件組件和底部填充材料在生產周期中的可靠性。還有針對這些工藝的壓力測試,例如通過濕度室運行他們的想法,并通過從 0°C 到 120°C 的熱量變化運行芯片和工藝超過 200 次,以確保它們足夠強大,適合實際使用。
與奧爾巴尼類似,布羅蒙的團隊已經看到封裝現在在芯片設計和性能中發揮著更大的作用,并致力于創建芯片及其封裝比近年來更加交織的工藝。“封裝已成為整個模塊性能的重要組成部分,”Lemieux 說。
四、Chiplet芯片封裝清洗:
合明科技研發的水基清洗劑配合合適的清洗工藝能為芯片封裝前提供潔凈的界面條件。
水基清洗的工藝和設備配置選擇對清洗精密器件尤其重要,一旦選定,就會作為一個長期的使用和運行方式。水基清洗劑必須滿足清洗、漂洗、干燥的全工藝流程。
污染物有多種,可歸納為離子型和非離子型兩大類。離子型污染物接觸到環境中的濕氣,通電后發生電化學遷移,形成樹枝狀結構體,造成低電阻通路,破壞了電路板功能。非離子型污染物可穿透PC B 的絕緣層,在PCB板表層下生長枝晶。除了離子型和非離子型污染物,還有粒狀污染物,例如焊料球、焊料槽內的浮點、灰塵、塵埃等,這些污染物會導致焊點質量降低、焊接時焊點拉尖、產生氣孔、短路等等多種不良現象。
這么多污染物,到底哪些才是最備受關注的呢?助焊劑或錫膏普遍應用于回流焊和波峰焊工藝中,它們主要由溶劑、潤濕劑、樹脂、緩蝕劑和活化劑等多種成分,焊后必然存在熱改性生成物,這些物質在所有污染物中的占據主導,從產品失效情況來而言,焊后殘余物是影響產品質量最主要的影響因素,離子型殘留物易引起電遷移使絕緣電阻下降,松香樹脂殘留物易吸附灰塵或雜質引發接觸電阻增大,嚴重者導致開路失效,因此焊后必須進行嚴格的清洗,才能保障電路板的質量。
合明科技運用自身原創的產品技術,滿足芯片封裝工藝制程清洗的高難度技術要求,打破國外廠商在行業中的壟斷地位,為芯片封裝材料全面國產自主提供強有力的支持。
推薦使用合明科技水基清洗劑產品。