典型先進封裝技術(shù)類別與SIP先進封裝清洗介紹
典型先進封裝技術(shù)類別與SIP先進封裝清洗介紹
一、典型先進封裝技術(shù)類別:
1、倒裝封裝:
倒裝封裝(Flip-Chip),是在I/O底板上沉積錫鉛球,然后將芯片翻轉(zhuǎn)加熱,利用熔融的錫鉛球與陶瓷機板相結(jié)合來替換傳統(tǒng)的打線鍵合。
2、晶圓級封裝:
晶圓級芯片封裝技術(shù)(Wafer LevelPackaging)是對整片晶圓進行封裝測試后再切割得到單個成品芯片的技術(shù),封裝后的芯片尺寸與裸片一致。
扇入型利用RDL層將電信號向內(nèi)擴展至芯片中心;扇出型則將電信號向外擴展至芯片外的區(qū)域,因此后者可連接更多引腳。
3、2.5D/3D封裝:
2.5D/3D封裝是三維層面的多芯片堆疊封裝工藝,其將多個芯片進行堆疊封裝,需使用TSV硅穿孔技術(shù),對貼片機精度要求在2.5-3μm。
其中2.5D封裝技術(shù)是通過中介層將不同芯片進行電路連接,電路連接效率更高,速度更快;而3D封裝技術(shù)是直接實現(xiàn)硅片或者芯片之間的多層堆疊。
4、系統(tǒng)級封裝:
系統(tǒng)中封裝(SiP-System in Package),是將多種功能芯片,包括處理器、存儲器等功能芯片集成在一個封裝內(nèi),從而實現(xiàn)一個基本完整的功能SiP技術(shù)通過標準的片外焊線鍵合或焊料凸點連接芯片。
5、先進封裝技術(shù)的發(fā)展趨勢:
(1)功能多樣化:封裝對象從最初的單裸片向多裸片發(fā)展,一個封裝下可能有多種不同功能的裸片;
(2)連接多樣化:封裝下的內(nèi)部互連技術(shù)不斷多樣化,從凸塊(Bumping)到嵌入式互連,連接的密度不斷提升;
(3)堆疊多樣化:器件排列已經(jīng)從平面逐漸走向立體,通過組合不同的互連方式構(gòu)建豐富的堆疊拓撲。先進封裝技術(shù)的發(fā)展延伸和拓展了封裝的概念,從晶圓到系統(tǒng)均可用“封裝”描述集成化的處理工藝。
二、SIP系統(tǒng)級封裝清洗工藝介紹
SIP集合了SMT組件制程工藝和芯片封裝工藝,工藝制成中和工藝完成后,都必須對所產(chǎn)生的焊膏、錫膏殘留物以及其他的污垢進行徹底的清洗和去除,從而達到組件可靠性的技術(shù)要求。因為器件微小的關(guān)系,使得清洗工藝以及清洗難度大幅提高,為了保障清洗的最終結(jié)果,必須嚴格制定清洗工藝和選擇相應的清洗劑,既滿足清除污垢的要求,又能保證良好的材料兼容性。
SIP制程工藝清洗,首要考慮的是選擇合適的清洗工藝。清洗工藝中考慮點: 可選半水基和水基工藝制成,往往在SIP制程中,我們需要考慮針對的清洗對象包括器件和芯片,既要能夠去除器件和芯片相關(guān)的污垢和殘留物,那么清洗劑的選擇尤為重要,工藝的選擇依據(jù)清洗劑的選擇來制定。半水基的兼容性范圍寬,安全性好,去除能力強; 水基成本低,效率高。
在清洗劑選擇中,首先在滿足技術(shù)要求條件的前提下,首選水基工藝,如水基工藝不能滿足工藝制程要求,在材料兼容性上缺乏保障度,其次選擇半水基清洗劑,清洗劑選擇確定以后,而后要考慮的是實現(xiàn)工藝的設(shè)備條件,清洗劑一般來說都有比較寬泛的使用范圍,都可以適用于噴淋和超聲波清洗工藝,往往SIP清洗工藝制程中,大部分客戶為了考慮SIP器件的可靠性和安全性,首選噴淋清洗工藝。
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以上為本公司一些經(jīng)驗的累積,因工藝問題內(nèi)容廣泛,沒有面面俱到,只對常見問題作分析,隨著電子產(chǎn)業(yè)的不斷更新?lián)Q代,新的工藝問題也不斷出現(xiàn),本公司自成立以來不斷的追求產(chǎn)品的創(chuàng)新,做到與時俱進,熟悉各種生產(chǎn)復雜工藝,能為各種客戶提供全方位的工藝、設(shè)備、材料的清洗解決方案支持。
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